微納米氧化鋁漿料分散機

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一、氧化鋁的廣泛應用

氧化鋁具有硬度高、化學穩定性好、導熱絕緣性能好等優點，已被廣泛應用在陶瓷、無機膜、研磨拋光材料等領域。用作分析試劑、導熱相變材料、CCL、環氧塑封料、環氧澆注料填充劑、導熱鋁基板、導熱硅膠墊、導熱灌封膠、導熱硅脂、導熱膠泥、導熱雙面膠有機溶劑的脫水、吸附劑、催化劑、冶煉鋁的原料、耐火材料。

二、氧化鋁的分散問題

近年來，已超細氧化***體研制功能陶瓷材料和新型功能復合材料受到人們的廣泛關注。但超細氧化***體比表面積大，表面活性高，單個超細顆粒往往處于不穩定狀態，顆粒之間因為相互吸引而團聚，易于失去超細粉體*的性能，因此超細氧化***體的分散，是超細氧化***體走向實用化的關鍵。

在水溶液中，氧化鋁漿料中的亞微米機微粒由于受靜電引力等作用發生團聚，出現絮凝，分層等現象，破壞漿料的分散穩定性。為此漿料的分散穩定性成為人們研究的重點。影響穩定性的因素有很多，如：分散劑種類及用量、分散設備的選擇、粉體的粒度及表面性質、PH值、溫度等。

當物料工藝確定后，影響分散穩定性的因素就是漿料中粒子的半徑，半徑越小，沉降越慢、穩定性越高。這種情況下要提高分散穩定性就必須選用高品質的分散設備，來獲得更好的物料粒徑，提高分散的均勻性，推薦GMD2000系列研磨分散機，*的結構，膠體磨+分散機一體化設備，14000rpm高轉速，效果好、效率高。

三、微納米氧化鋁漿料分散設備

結合多家化工企業案例，我司推薦GMD2000系列研磨式高速分散機進行氧化鋁分散，一般可獲得超細的物料粒徑，一般為1-2μm左右。當然還要看具體的物料工藝，以及原始狀態。

GMD2000是由膠體磨和分散機組合而成的設備，轉速高達18000rpm，強大的剪切力。膠體磨磨頭配合分散機分散盤，先研磨后分散。這種特殊的設計的優勢在于，粒子細化之后容易出現絮凝現象，所以此時分散十分重要，而砂磨機難以分散。

GMD2000系列研磨分散設備是SGN（蘇州）公司經過研究剛剛研發出來的一款新型產品，該機特別適合于需要研磨分散乳化均質一步到位的物料。我們將高剪切均質乳化機進行改裝，我們將三層變更為一級，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經過膠體磨細化物料，然后再經過乳化機將物料分散乳化均質。膠體磨可根據物料要求進行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種分散頭供客戶選擇）。

四、實驗室氧化鋁漿料分散設備

上面介紹的是中試和工業級使用的分散機，若需要在實驗室進行小試，可以使用SGN的SA25型手持式高剪切分散機，該款產品可以達到28000rpm的高轉速，團聚顆粒經過工作頭下方吸料進入剪切區域，被瞬間撕裂，同時在顆粒表面形成靜電電荷，達到混為排斥進而不再團聚的效果。

研磨分散機選型表

微納米氧化鋁漿料分散機